Nanomateriały Cienkie warstwy półprzewodników
Nanomateriały
01Technika
Dysponujemy aparaturą oraz kadrą naukowo-techniczną, pozyskaną w toku blisko 10-letniego doświadczenia w realizacji projektów naukowo-przemysłowych w wielu obszarach technologicznych i dyscyplinach naukowych. CBRTP specjalizuje się w projektowaniu oraz wytwarzaniu laboratoryjnym i półprzemysłowym półprzewodników oraz dielektryków, w tym także materiałów kompozytowych na dowolnych powierzchniach. Rodzaj zastosowanej techniki zależy od rodzaju podłoża i wymaga konsultacji oraz oceny materiału przed wykonaniem procesu.
02Metoda osadzania
Rozpylanie magnetronowe (PVD)
- materiały deponowane: ZnO, TiO2, ITO, AZO, CuO, CuO2, NiO
- rodzaj materiału i geometria powierzchni: powierzchnie płaskie, typ materiału – dowolny, wymiary substratu do 200 mm średnicy
- dodatkowe źródła wzbudzania: elementy oporowe pracujące w zakresie temperaturowym 50oC do 450oC
- możliwe domieszkowanie warstw tlenkowych innymi metalami
Osadzanie metodą nanoszenia warstw atomowych (ALD)
- materiały deponowane: ZnO, TiO2, ITO, AZO, ZnS, SnS, CuS, CuO, CuO2
- na dowolnych powierzchniach stabilnych w podwyższonej temperaturze 200oC zależnej od półprzewodnika (200-400oC) o dowolnym rozwinięciu powierzchni do maksymalnych rozmiarów w zakresie 200x200x600 mm3
- proces w temperaturze 150-400oC
- możliwe powierzchniowe i objętościowe domieszkowanie warstw
- możliwe wytwarzanie struktur o gradientowej zmianie składu
- możliwe sterowanie stopniem krystaliczności warstwy
03Wykorzystanie
- ogniwa fotowoltaiczne
- sensory
- transparentna elektronika
- filtry optyczne
- struktury modyfikujące twardość i adhezję wszelkiego rodzaju materiałów
- zabezpieczenia antykorozyjne
- warstwy antyreflekcyjne
- warstwy hydro i oleofobowe
