English Cienkie warstwy izolatorów

English

01Technika

CBRTP w toku realizacji wielu projektów półprzewodnikowych wypracował kompetencje oraz know-how w zakresie wytwarzania cienkich warstw izolatorów na dowolnych powierzchniach. Rodzaj zastosowanej techniki zależy od rodzaju podłoża i wymaga konsultacji oraz oceny materiału przed wykonaniem procesu.

02Metody osadzania

– nanoszenie warstw atomowych (ALD)
– rozpylanie magnetronowe (PVD)
– nanoszenie z fazy gazowej (LPCVD, CVD, PECVD)

  • materiały i ich kompozyty: Al2O3, MgO, TiN, AlN
  • na dowolnych powierzchniach stabilnych w podwyższonej temperaturze 200oC zależnej od izolatora (100-550oC) o dowolnym rozwinięciu powierzchni do maksymalnych rozmiarów w zakresie 200x200x600 mm3
  • proces w temperaturze 100-550oC
  • możliwe powierzchniowe i objętościowe domieszkowanie warstw
  • możliwe wytwarzanie struktur o gradientowej zmianie składu
  • możliwe sterowanie stopniem krystaliczności warstwy

03Wykorzystanie

  • ogniwa fotowoltaiczne
  • sensory
  • transparentna elektronika
  • filtry optyczne
  • struktury modyfikujące twardość i adhezję wszelkiego rodzaju materiałów
  • zabezpieczenia antykorozyjne
  • warstwy antyreflekcyjne
  • warstwy hydro i oleofobowe
  • ograniczenie zdolności sorpcji układów nanoporowatych

01Ask a question