English Piece

English

01Piec rurowy Czylok, piec muflowy Brant

Parametry

  • Wielkość próbki: 100 mm x 100 mm
  • Inżynieria warstw/systemy depozycji
  • Kalcynacja materiałów proszkowych, reakcje w fazie gazowej (CVD)

CVD (chemical vapour deposition) – metoda chemicznego osadzania z fazy gazowej polegająca na tworzeniu warstw na powierzchni danego podłoża/przedmiotu z substratów przeprowadzonych w stan pary/gazu. Proces prowadzony jest w temperaturze 400-1100°C, w atmosferze zawierającej pary związków chemicznych metalu stanowiącego podstawowy składnik danej warstwy – halogenki danego pierwiastka oraz węglowodoru, azotu, wodoru lub argonu. Połączenie podłoże-powłoka jest wynikiem reakcji chemicznej zachodzącej na powierzchni pomiędzy składnikami podłoża i reagentami w fazie gazowej.

 

01Ask a question