Nanomateriały Reaktor PVD
Nanomateriały
![](https://cbrtp.pl/wp-content/uploads/2022/04/20220519_1452411-scaled.jpg)
01Reaktor PVD
Parametry
- Inżynieria warstw/systemy depozycji
- Komora o średnicy 500 mm i wyrzutni 150 mm
PVD (physical vapour deposition – magnetron sputtering) – metoda fizycznego osadzania z fazy gazowej. Proces PVD wykorzystuje zjawiska odparowywania metali/stopów, rozpylanie katodowe, jonizację gazów i par, i ostatecznie krystalizację określonych faz z plazmy na wybranym podłożu. Nanoszenie powłok prowadzone jest na podłożu zimnym lub podgrzanym do temperatury 200-500°C. Połączenie podłoże-powłoka ma charakter adhezyjny.
![](https://cbrtp.pl/wp-content/uploads/2022/04/20220519_1453171-scaled.jpg)