Inżynieria warstw atomowych dla nowej generacji ogniw
Data27 maja 2022
TematykaPublikacje
Autorm.maciocha
W naszych badaniach pokazujemy, że inżynieria warstwowa za pomocą techniki ALD (atomic layer deposition) może mieć pozytywny wpływ na parametry pracy i stabilność perowskitowych ogniw słonecznych. Tym samym dodajemy naszą cegiełkę wiedzy do wytworzenia wydajnej i odpornej na czynniki środowiskowej struktury dla przyszłych technologii fotowoltaicznych.
Nasza najnowsza praca na ten temat została opublikowana w czasopiśmie Advanced Materials Interfaces z udziałem badaczy pracujących w:
- Institute of Physical Chemistry, Polish Academy of Sciences},
- Karamanoglu Mehmetbey University
- Massachusetts Institute of Technology
- Pandit Deendayal Energy University (PDEU)
- Brandenburgische Technische Universität Cottbus-Senftenberg
- Indian Institute of Technology, Roorkee
Link do artykułu:
https://onlinelibrary.wiley.com/doi/full/10.1002/admi.202200575
